[发明专利]用于在真空腔室中处理载体的设备、真空沉积系统和在真空腔室中处理载体的方法在审
| 申请号： | 201880004210.4 | 申请日： | 2018-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN110557952A | 公开（公告）日： | 2019-12-10 |
| 发明（设计）人： | 马蒂亚斯·赫曼尼斯;詹斯·格伦斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/50;C23C14/56;H01L21/67;H01L21/68 |
| 代理公司： | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 描述了一种用于在真空腔室中处理载体的设备(100)。所述设备包括真空腔室(101)，所述真空腔室具有带有开口(106)的壁(102)。第一驱动单元(142)布置在所述真空腔室(101)外部，并且被配置为使延伸穿过所述开口(106)到所述真空腔室(101)中的第一从动部分(143)移动。用于保持或移动载体(30)的第一部件(150)附接到所述真空腔室(101)中的所述第一从动部分(143)。所述第一从动部分(143)提供用于供应所述第一部件(150)的第一供应通道(147)。另外，描述了一种真空沉积系统和一种处理载体的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 真空腔室 开口 真空沉积系统 供应通道 驱动单元 延伸穿过 移动载体 外部 移动 配置 | ||
【主权项】：
1.一种用于在真空腔室中处理载体的设备(100)，包括：/n真空腔室(101)，所述真空腔室具有带有开口(106)的壁(102)；/n第一驱动单元(142)，所述第一驱动单元布置在所述真空腔室(101)外部，并且被配置为使延伸穿过所述开口(106)到所述真空腔室(101)中的第一从动部分(143)移动；和/n第一部件(150)，所述第一部件用于在所述真空腔室(101)中保持或移动附接到所述第一从动部分(143)的载体，所述第一从动部分(143)提供用于供应所述第一部件(150)的第一供应通道(147)。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司，未经应用材料公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880004210.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
