[发明专利]利用激光化学气相沉积的精细布线形成方法在审
| 申请号： | 201880004222.7 | 申请日： | 2018-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN111615868A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 金宇珍;具亨俊;車正泰 | 申请（专利权）人： | 株式会社考恩斯特;苏州科韵激光科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/14 | 分类号： | H05K3/14;H05K3/22 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种精细布线形成方法，包括：通过激光化学气相沉积(LCVD)供给包括多种金属元素的源气体，同时在基板形成包括多种金属元素的合金布线的步骤；以及在包括所述合金布线的区域实施激光热处理的步骤。根据本发明的精细布线形成方法，首次通过LCVD方式形成精细布线的同时通过沉积合金在短时间内以窄宽度生长高厚度以达成良好的膜质，通过后续激光热处理修复精细布线内部的膜质缺陷，改善组织密度以及膜质，可提高膜质均匀度与导电稳定性，调节照射宽度与功率强度以及照射方式，在部分熔融的过程中可使图案聚集的同时可将精细布线的线宽降低至2μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 激光 化学 沉积 精细 布线 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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