[发明专利]等离子炬、等离子炬用的顶端电极、以及熔液加热装置在审
申请号: | 201880004248.1 | 申请日: | 2018-02-15 |
公开(公告)号: | CN109952815A | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | 前川浩规;三浦康彰 | 申请(专利权)人: | 日铁工程技术株式会社 |
主分类号: | H05H1/34 | 分类号: | H05H1/34;F27D11/08 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开涉及等离子炬、等离子炬用的顶端电极、以及熔液加热装置。等离子炬(10)是为了在中间包内使等离子体(P)在其与熔液(M)之间产生而使用的,该中间包具备:积存槽,其用于积存熔液(M);以及盖(102b),其用于覆盖朝向上方敞开着的积存槽的开口部。等离子炬(10)具备:金属制的主体(18),其构成为,可在设于盖(102b)的贯通孔(102d)内贯穿,以使在由等离子体(P)对熔液(M)进行加热处理时朝向熔液(M)的下端部(18a)位于中间包内;以及石墨制的顶端电极(20),其安装于主体(18)的下端部(18a)。 | ||
搜索关键词: | 等离子炬 熔液 顶端电极 中间包 等离子体 加热装置 积存槽 下端部 加热处理 贯通孔 金属制 开口部 石墨制 积存 敞开 贯穿 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种等离子炬,其是在容器内使等离子体在其与熔液之间产生的等离子炬,该容器具备:积存槽,其用于积存熔液;以及盖,其用于覆盖朝向上方敞开着的所述积存槽的开口部,其中,该等离子炬具备:金属制的主体,其构成为,能够在设于所述盖的贯通孔内贯穿,以使在由等离子体对熔液进行加热处理时朝向熔液的顶端部位于所述容器内;以及石墨制的顶端电极,其安装于所述主体的所述顶端部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日铁工程技术株式会社,未经日铁工程技术株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880004248.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:显示装置及电子装置
- 下一篇:微波输出装置及等离子体处理装置