[发明专利]强磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201880004278.2 | 申请日： | 2018-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN111183244B | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 荻野真一 | 申请（专利权）人： | JX金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C1/04 |
| 代理公司： | 北京伟思知识产权代理事务所(普通合伙) 11725 | 代理人： | 聂宁乐;胡瑾 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种漏磁通高，在溅射时能够减少微粒的产生的Co－Pt系强磁性材料溅射靶。其是以Co∶Pt＝X∶100－X(59≤X＜100)的摩尔比，含有合计70mol％以上的金属Co以及金属Pt，含有0mol％以上20mol％以下的金属Cr的强磁性材料溅射靶，其中，具有：Co粒子相，其含有90mol％以上的金属Co，平均粒径为30～300μm；Co－Pt合金粒子相，其在以摩尔比Co∶Pt＝Y∶100－Y(20≤Y≤60.5)的条件下，含有合计70mol％以上的金属Co以及金属Pt，且平均粒径为7μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性材料 溅射 | ||
【主权项】：
暂无信息
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