[发明专利]能够稳定放电的溅射靶有效
| 申请号： | 201880004613.9 | 申请日： | 2018-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN111133126B | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 岩渊靖幸;荻野真一 | 申请（专利权）人： | ＪＸ金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京得信知识产权代理有限公司 11511 | 代理人： | 袁伟东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种强磁性材料溅射靶，在磁控溅射装置能够获得稳定的放电，并且溅射时的颗粒产生少，提高了漏磁通。溅射靶具备由Co或Co合金构成的多个金属粒子(A)、以及填埋在该多个金属粒子间的隙间中的Co或Co合金与金属氧化物相互彼此分散的复合相(B)，构成多个金属粒子(A)的Co或Co合金中的Co浓度与构成复合相(B)的Co或Co合金中的Co浓度之差为5at％以下，多个金属粒子(A)相对于多个金属粒子(A)以及复合相(B)的合计面积的面积比率为20～65％。 | ||
| 搜索关键词： | 能够 稳定 放电 溅射 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ＪＸ金属株式会社，未经ＪＸ金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880004613.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
