[发明专利]氧化物溅射靶及氧化物溅射靶的制造方法在审
| 申请号： | 201880004813.4 | 申请日： | 2018-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN110352263A | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 野中荘平;森理恵;长尾昌芳 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 刁兴利;王珍仙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种氧化物溅射靶，其由作为金属成分含有锆、硅及铟的氧化物组成，所述氧化物溅射靶的特征在于，靶面内的氧浓度的最大值与最小值之差相对于所述氧浓度的最大值与最小值的合计的比率为15％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射靶 氧化物 氧化物组成 靶面 金属 制造 | ||
【主权项】：
1.一种氧化物溅射靶，其由作为金属成分含有锆、硅及铟的氧化物组成，所述氧化物溅射靶的特征在于，靶面内的氧浓度的最大值与最小值之差相对于所述氧浓度的最大值与最小值的合计的比率为15％以下。
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