[发明专利]化学放大型正型光致抗蚀组合物以及图案形成方法

摘要

[问题]本发明提供一种可形成具有优异的截面形状的图案的正型化学放大型光致抗蚀组合物与使用了其的图案形成方法。[解决方案]一种正型化学放大型光致抗蚀组合物、以及使用了其的图案形成方法，该正型化学放大型光致抗蚀组合物包含：(A)与酸进行反应而使得相对于碱性水溶液的溶解度增加的聚合物、(B)有机溶剂、(C)包含不具有极性基团的阳离子的第一光酸产生剂、以及(D)包含具有极性基团的阳离子的第二光酸产生剂。

主权项

1.一种化学放大型正型光致抗蚀组合物，其包含：(A)与酸进行反应而使得相对于碱性水溶液的溶解度增加的聚合物、(B)有机溶剂、(C)选自由XA‑ZA、XB‑ZA、XB‑ZB、XB‑ZC、以及XC‑ZA组成的组中的第一光酸产生剂、以及(D)选自由XA‑ZB以及XC‑ZB组成的组中的第二光酸产生剂：此处，XA由下式表示，R^XA‑I⁺‑R^XA       (XA)式中，R^XA为烷基芳基，各个R^XA可以相同也可不同，XB由下式表示，式中，R^XB分别独立地为非取代芳基、烷基取代芳基、芳基取代芳基、芳基硫基取代芳基、芳氧基取代芳基、非取代烷基、芳基取代烷基、芳基硫基取代烷基、或者芳氧基取代烷基，XC由下式表示，式中，R^XC分别独立地为非取代芳基、烷基取代芳基、芳基取代芳基、芳基硫基取代芳基、芳氧基取代芳基、烷基氧基取代芳基、羟基芳基、烷基氧基烷基取代芳基、羧酸酯基取代芳基、酰氧基取代芳基、非取代烷基、芳基取代烷基、芳基硫基取代烷基、烷基氧基取代烷基、羟基烷基、羧酸酯基取代烷基、或者酰氧基取代烷基，R^XC之中的至少一个是烷基氧基取代芳基、羟基芳基、羧酸酯基取代芳基、酰氧基取代芳基、烷基氧基取代烷基、羟基烷基、羧酸酯基取代烷基、或者酰氧基取代烷基，ZA由下式表示，R^ZAS0₃^‑       (ZA)式中，R^ZA为氟取代烷基、氟取代烷基醚基、氟取代芳基、氟取代酰基、或者氟取代烷氧基芳基，ZB由下式表示，式中，R^ZB分别独立地为氟取代烷基、氟取代烷基醚基、氟取代芳基、氟取代酰基、或者氟取代烷氧基芳基，另外，2个R^ZB不结合或相互结合而形成氟取代的杂环结构，ZC由下式表示，式中，R^ZC为氢原子、烷基、烷氧基、或者羟基，L^ZC为氧基或者羰基氧基，X^ZC分别独立地为氢原子或者氟原子，n^ZC1为0～10，且n^ZC2为0～21，并且其中XA、XB、或者XC的正电荷与ZA、ZB或者ZC的负电荷结合。