[发明专利]用于三维存储器的外围电路的保护性结构以及制作方法有效

专利信息
申请号: 201880005606.0 申请日: 2018-09-27
公开(公告)号: CN110520992B 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 霍宗亮;周文斌;赵治国;唐兆云;熊海林 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L27/11573 分类号: H01L27/11573
代理公司: 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 代理人: 杨锡劢;赵磊
地址: 430074 湖北省武汉市东湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 半导体存储器器件(800)包括具有第一区(103)、第二区(105)以及第三区(106)的衬底(101),第一区(103)具有外围器件,第二区(105)具有一个或多个存储器阵列,且第三区(106)在第一区(103)与第二区(105)之间。半导体存储器器件(800)还包括针对外围器件的保护性结构(862)。半导体存储器器件(800)的针对外围器件的保护性结构(862)包括第一电介质层(232)以及被设置在第一电介质层上的阻挡层(242)。半导体存储器器件(800)的针对外围器件的保护性结构(862)还包括被形成在阻挡层的侧壁(342t)和第一电介质层的侧壁(232s)上的电介质间隙壁(652s),其中,保护性结构(862)被设置在第一区(103)和第三区(106)的至少一部分之上。
搜索关键词: 用于 三维 存储器 外围 电路 保护性 结构 以及 制作方法
【主权项】:
1.一种半导体存储器器件,包括:/n衬底,其具有第一区、第二区以及第三区,所述第一区具有外围器件,所述第二区具有一个或多个存储器阵列,所述第三区在所述第一区与所述第二区之间;以及/n保护性结构,其针对所述外围器件,所述保护性结构包括:/n第一电介质层;/n阻挡层,其被设置于所述第一电介质层上;以及/n电介质间隙壁,其被形成在所述阻挡层的侧壁和所述第一电介质层的侧壁上,/n其中,所述保护性结构是被设置在所述第一区和所述第三区的至少一部分之上的。/n
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