[发明专利]薄膜的逐层优化方法在审
| 申请号： | 201880005736.4 | 申请日： | 2018-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN110168133A | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | D·桑希尔 | 申请（专利权）人： | 依视路国际公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;G02B1/115;G02C7/02 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘娜;张振军 |
| 地址： | 法国沙*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本文提供了一种涂覆基材的方法。所述方法包括：提供至少一个测试基材、b)所述多层涂层的至少一个层的编程物理厚度(T)、以及c)设计文件，所述设计文件包括所述多层涂层的所述至少一个层的目标物理厚度和目标光谱性能；将所述至少一个层沉积到所述测试基材上，以形成具有某一光学厚度的施涂层；测量所述施涂层的光谱性能；以及将所述编程物理厚度(T)与所述施涂层的光学厚度进行比较，从而生成数据集(ΔT)。还披露了一种系统、以及一种通过本文所述的方法生产的光学制品。 | ||
| 搜索关键词： | 测试基材 多层涂层 设计文件 编程 光学制品 目标光谱 目标物理 生成数据 涂覆基材 光谱 沉积 薄膜 测量 优化 生产 | ||
【主权项】：
1.一种对至少一个基材涂覆多层涂层的方法，所述方法包括：提供a)至少一个测试基材、b)所述多层涂层的至少一个层的编程物理厚度(T)、以及c)设计文件，所述设计文件包括所述多层涂层的所述至少一个层的目标物理厚度和目标光谱性能；将所述至少一个层沉积到所述测试基材上，以形成具有某一光学厚度的施涂层；测量所述施涂层的光谱性能；以及将所述编程物理厚度(T)与所述施涂层的光学厚度进行比较，从而生成数据集(ΔT)。
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