[发明专利]具有稳定电荷倍增增益的EMCCD图像传感器在审

专利信息
申请号: 201880005835.2 申请日: 2018-01-10
公开(公告)号: CN110168734A 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: J·希内切克;E·G·史蒂文斯;C·帕克斯;S·科斯曼 申请(专利权)人: 半导体组件工业公司
主分类号: H01L27/148 分类号: H01L27/148;H01L29/768;H01L29/66;H01L29/51
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 章蕾
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明题为“具有稳定电荷倍增增益的EMCCD图像传感器”。本发明公开了在电子倍增电荷耦合器件EMCCD图像传感器(14)中,在电荷倍增电极(201)下方的电介质堆叠中的电子陷阱(209)可能导致不期望的增益老化。为了减小增益老化漂移效应,可以形成电介质堆叠(304,305),该电介质堆叠在电荷倍增电极下方的区中不包括电子陷阱。为了实现这个目的,可以在该电荷倍增电极下方的区中去除该电介质堆叠中的氮化硅(305)。因此,该EMCCD图像传感器可以在其操作寿命期间以稳定电荷载流子倍增增益制造。
搜索关键词: 电介质堆叠 图像传感器 倍增 倍增电极 稳定电荷 电荷 电子陷阱 载流子 老化 电荷耦合器件 漂移效应 氮化硅 减小 去除 期望 制造
【主权项】:
1.一种具有至少一个电荷耦合器件寄存器(100)的电荷耦合器件(CCD)图像传感器(14),所述至少一个电荷耦合器件寄存器包括:硅衬底(120);多个栅极(101,103),所述多个栅极形成在所述硅衬底上方;电荷倍增节段,其中电荷倍增栅极(102,104)在所述电荷倍增节段中插置在所述多个栅极中的栅极之间,并且其中在所述电荷倍增节段中传输的电子经历碰撞电离;和至少一个电介质层(304),所述至少一个电介质层形成在所述电荷倍增栅极与所述硅衬底之间,其中所述至少一个电介质层在所述电荷倍增栅极与所述硅衬底之间没有电子陷阱。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于半导体组件工业公司,未经半导体组件工业公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880005835.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top