[发明专利]微型分光仪和设置用于对象的光谱分析的方法在审
| 申请号： | 201880007134.2 | 申请日： | 2018-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN110168414A | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | B.斯坦因;M.胡斯力克;E.鲍姆加特;C.胡贝;R.维斯 | 申请（专利权）人： | 罗伯特·博世有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G01J3/02;G01N21/00;G01J3/28;G01J3/45;G01J3/453 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 赵伯俊;刘茜 |
| 地址： | 德国斯*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微型分光仪（1000），所述微型分光仪包括：‑探测单元（3），所述探测单元被设置用于确定电磁辐射的光学量；‑光学单元（1），所述光学单元包括Savart‑元件（V），其中，所述Savart‑元件（V）包括偏光器（10）、第一双折射元件（12'）和第二双折射元件以及分析器（11）；和‑光学成像系统（2），所述光学成像系统布置在所述光学单元（1）和所述探测单元（3）之间的光路中，其中，所述光学成像系统（2）被设置用于，使来自所述光学单元（1）的电磁辐射（103'、103''）成像到所述探测单元（3）上；其中，所述光学成像系统（2）包括多孔物镜（22），其中，所述多孔物镜（22）包括多个光学成像通道。 | ||
| 搜索关键词： | 光学成像系统 光学单元 探测单元 分光仪 电磁辐射 双折射元件 物镜 光学成像通道 光谱分析 分析器 光学量 偏光器 光路 成像 | ||
【主权项】：
1.微型分光仪（1000），包括：‑探测单元（3），所述探测单元被设置用于确定电磁辐射的光学量，‑光学单元（1），所述光学单元包括Savart‑元件（1'），其中，所述Savart‑元件（1'）包括偏光器（10）、第一双折射元件（12'）和第二双折射元件（12''）以及分析器（11），和‑光学成像系统（2），所述光学成像系统布置在光路中在所述光学单元（1）和所述探测单元（3）之间，其中，所述光学成像系统（2）被设置用于，使来自所述光学单元（1）的电磁辐射（103'、103''）成像到所述探测单元（3）上，其特征在于，所述光学成像系统（2）包括多孔物镜（22），其中，所述多孔物镜（22）包括多个光学成像通道。
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