[发明专利]用于还原金属卤化物的方法在审
| 申请号： | 201880007998.4 | 申请日： | 2018-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN110234604A | 公开（公告）日： | 2019-09-13 |
| 发明（设计）人： | J·松德迈尔;L·哈梅尔;R·拉蒙穆勒;A·里瓦斯纳斯;A·多普尤;E·沃尔奈尔;R·卡驰 | 申请（专利权）人： | 优美科股份公司及两合公司 |
| 主分类号： | C01G41/04 | 分类号： | C01G41/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 刘学媛 |
| 地址： | 德国哈瑙*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： |
本发明涉及由式MXm的前体化合物制备式MXn的化合物的方法，其中M为金属，X是选自F、Cl、Br、J的卤化物，m是选自范围2至8的数，并且n是选自范围1至7的数，条件是n |
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| 搜索关键词： | 卤化物 前体化合物 还原金属 制备 金属 | ||
【主权项】：
1.由式MXm的前体化合物制备式MXn的化合物的方法，其中M为金属，X为卤化物，选自F、Cl、Br、J，m为选自2至8的数，并且n为选自1至7的数，要求是n<m，包括其中所述前体化合物利用硅烷化合物还原形成式MXn的化合物的方法步骤。
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