[发明专利]表面检验系统及方法有效

专利信息
申请号: 201880009158.1 申请日: 2018-01-26
公开(公告)号: CN110313058B 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: K·哈勒尔 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘丽楠
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文中描述用于检测晶片表面上的颗粒缺陷,将所述颗粒转化为光谱活性状态,且通过光谱技术来识别所述经活化的颗粒的材料组成的方法及系统。颗粒缺陷是通过化学处理、热处理、光化学处理或其组合转化,使得经活化的颗粒展现可光谱观察的原子振动带。在一个实施例中,表面检验系统检测晶片表面上颗粒缺陷的存在,活化所述经检测的颗粒中的一或多者中的可观察拉曼带,且通过光谱技术来识别所述经活化的颗粒的所述材料组成。通过在相同检验工具上执行缺陷检测及组成分析两者,无需将晶片转移到不同重检工具或工具组合,以执行沉积在半导体晶片上的颗粒缺陷的组成分析。
搜索关键词: 表面 检验 系统 方法
【主权项】:
1.一种表面检验系统,其包括:第一照明源,其经配置以生成第一照明光束;照明物镜,其经配置以在样品的表面上的测量点处投射所述第一照明光束以化学地改变缺陷颗粒使得所述缺陷颗粒变成光谱活性;一或多个分光计,其经配置以基于从所述经活化的缺陷颗粒散射的光量来生成指示所述经活化的缺陷颗粒的材料组成的输出信号;及计算系统,其经配置以:接收指示从所述经活化的缺陷颗粒散射的所述光量的所述输出信号;及基于所述输出信号来确定所述经活化的缺陷颗粒的材料组成。
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