[发明专利]高结晶银微粒的制造方法在审
| 申请号： | 201880009446.7 | 申请日： | 2018-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN110234452A | 公开（公告）日： | 2019-09-13 |
| 发明（设计）人： | 邨田康成;榎村真一 | 申请（专利权）人： | M技术株式会社 |
| 主分类号： | B22F9/24 | 分类号： | B22F9/24;B22F1/00;B22F9/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 陈冠钦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明为高结晶银微粒的制造方法，其特征在于，在利用还原反应的银微粒的制造方法中，通过连续湿式还原法使至少包含银离子的银溶液和至少包含还原剂的还原剂溶液反应，使银微粒析出，从上述银溶液到银微粒的还原率为99％以上，上述银微粒的平均一次粒径为100nm以上1000nm以下，上述银微粒的平均微晶粒径相对于平均一次粒径为80％以上。根据本发明，也可利用液相法连续地得到平均微晶粒径(d)相对于平均一次粒径(D)的比率(d/D)为95％以上的银微粒、即全部银微粒接近单晶的银微粒。 | ||
| 搜索关键词： | 银微粒 平均一次粒径 微晶粒径 高结晶 银溶液 制造 还原剂溶液 湿式还原法 还原反应 析出 还原剂 还原率 液相法 银离子 单晶 | ||
【主权项】：
1.高结晶银微粒的制造方法，其特征在于，在利用还原反应的银微粒的制造方法中，通过连续湿式还原法使至少包含银离子的银溶液和至少包含还原剂的还原剂溶液反应，使银微粒析出，从上述银溶液到银微粒的还原率为99％以上，上述银微粒的平均一次粒径为100nm以上1000nm以下，上述银微粒的平均微晶粒径相对于平均一次粒径为80％以上。
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