[发明专利]在等离子体反应器中用于可调节工件偏压的系统在审
| 申请号： | 201880009994.X | 申请日： | 2018-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN110249407A | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | T·高;P·A·克劳斯;L·多尔夫;P·古帕拉加 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 汪骏飞;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文提供了在等离子体反应器中用于可调节工件偏压的系统和方法。在一些实施例中，系统包含：等离子体腔室，所述等离子体腔室执行工件上的等离子体处理；第一脉冲电压源，所述第一脉冲电压源直接耦合至工件；第二脉冲电压源，所述第二脉冲电压源电容性地耦合至所述工件；以及偏压控制器，所述偏压控制器基于所述第一脉冲电压源和所述第二脉冲电压源的一个或更多个参数来独立地控制所述第一脉冲电压源和所述第二脉冲电压源，以便裁制被引导至所述工件的离子通量的离子能量分布。 | ||
| 搜索关键词： | 脉冲电压源 等离子体反应器 等离子体腔室 偏压控制器 工件偏压 可调节 等离子体处理 电容性地 离子能量 离子通量 直接耦合 耦合 裁制 | ||
【主权项】：
1.一种用于可调节工件偏压的系统，包括：等离子体腔室，所述等离子体腔室执行工件上的等离子体处理；第一脉冲电压源，所述第一脉冲电压源在所述等离子体腔室中直接耦合至所述工件；第二脉冲电压源，所述第二脉冲电压源电容性地耦合至所述工件；以及偏压控制器，所述偏压控制器基于所述第一脉冲电压源和所述第二脉冲电压源的一个或更多个参数来独立地控制所述第一脉冲电压源和所述第二脉冲电压源，以便裁制被引导至所述工件的离子通量的离子能量分布。
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