[发明专利]生成用于优化外部射束放射治疗计划的输入的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201880010009.7 申请日: 2018-01-24
公开(公告)号: CN110248701B 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: A·A·伊索拉;C·诺伊基兴;T·维克;H·S·黑泽;R·J·威斯 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘兆君
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及用于对例如迭代VMAT算法的动态滑动窗口式初始化。具体地,预想到动态滑动窗口转换方法,其中,考虑典型的动态VMAT约束以找到能够用作针对任何VMAT算法的准可行的启动初始化的一组最优合适开口(即,二元掩模),其能够被细化直到达成了可递送计划。这里,执行多叶叶尖轨迹最小二乘约束优化以找到针对所有弧形点的所有MLC叶对的一组最优单向轨迹。为了确保返回准可行(或更好的准可递送)解决方案,例如可以强制执行最大剂量率、最大机架速度、最大叶速度和最大处置时间。
搜索关键词: 生成 用于 优化 外部 放射 治疗 计划 输入 方法 设备
【主权项】:
1.一种为多叶准直器生成用于优化外部射束放射治疗计划的输入的计算机实施的方法,包括:‑获得指示期望的剂量和/或强度分布的信息的信息获得步骤(10、15),‑针对多个弧形角度扇区或位置中的每个对约束优化问题进行求解以获得反映所述期望的剂量和/或强度分布的叶尖轨迹或位置的优化步骤(20),所述约束包括:关于能量源的约束、关于所述多叶准直器的静态约束和/或关于所述多叶准直器的动态约束,以及‑针对所述多个弧形角度扇区或位置中的每个来计算指示所述多叶准直器使像素暴露的二元掩模的计算步骤(30),‑其中,使多个所述二元掩模可用作用于优化所述外部射束放射治疗计划的输入。
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