[发明专利]掩模版夹持设备有效
申请号: | 201880011018.8 | 申请日: | 2018-01-17 |
公开(公告)号: | CN110268331B | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | E·佐丹;B·A·埃文斯;D·N·伯班克;A·R·巴赫蒂;S·A·内费 | 申请(专利权)人: | ASML控股股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了为图案形成设备提供Z方向的支撑系统的系统和方法,该图案形成设备可以在对X和Y方向的行进和迟滞影响最小的条件下在高加速度和高减速度下工作。掩模版夹持系统包括支撑设备和保持设备。保持设备被配置为可释放地将掩模版耦合到支撑设备。保持设备包括多个突节。掩模版夹持系统还包括被耦合到支撑设备的金属支撑系统。金属支撑系统提供从真空通道到保持设备的真空路径。 | ||
搜索关键词: | 模版 夹持 设备 | ||
【主权项】:
1.一种掩模版夹持系统,包括:支撑设备;保持设备,被配置为将掩模版可释放地耦合到所述支撑设备,其中所述保持设备包括多个突节;以及金属支撑系统,被耦合到所述支撑设备,并且被配置为提供从真空通道到所述保持设备的真空路径。
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