[发明专利]再生多硫化物清除层的制造方法以及锂-硫电池在审
| 申请号： | 201880011264.3 | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN111066194A | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 卢云峰;徐建国;沈力 | 申请（专利权）人： | 加利福尼亚大学校务委员会;福特切尔国际有限公司 |
| 主分类号： | H01M10/42 | 分类号： | H01M10/42;H01M2/16;H01M10/052;H01M4/38 |
| 代理公司： | 北京工信联合知识产权代理有限公司 11266 | 代理人： | 朱振德 |
| 地址： | 美国加利福尼亚州奥克*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种再生多硫化物清除层(RSL)的制造方法。该方法包括将金属氧化物的纳米线或纳米晶体嵌入纳米碳管(CNTs)的膜、用嵌入的金属氧化物的纳米线或纳米晶体和该膜形成RSL，以使锂‑硫电池具有高能量密度和延长循环寿命。本发明还公开了一种包括RSL的锂‑硫电池。 | ||
| 搜索关键词： | 再生 硫化物 清除 制造 方法 以及 电池 | ||
【主权项】：
暂无信息
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