[发明专利]用于预测测量方法的性能的方法和设备、测量方法和设备有效
| 申请号： | 201880011277.0 | 申请日： | 2018-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN110291464B | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | S·G·J·马西森;S·B·罗博尔;林楠;W·M·J·M·柯恩;A·J·登鲍埃夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G01N21/47;G01N21/956 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 通过光刻过程在衬底(W)上形成诸如重叠光栅(Ta和Tb)之类的目标结构。用第一辐射(456a)的斑(Sa)照射第一目标，同时用第二辐射(456b)的斑(Sb)照射第二目标。传感器(418)在不同部位处检测所述第一辐射的已经被所述第一目标的特征在第一方向上衍射的部分(460x‑、460x+)，以及所述第二辐射的已经被所述第二目标的特征在第二方向上衍射的部分(460y‑、460y+)。可以同时检测X方向和Y方向上的不对称性，从而减少在X和Y上进行重叠测量所需的时间。可以简单地通过激励较高次谐波产生(HHG)辐射源或逆康普顿散射源中的两个部位(710a、710b)来产生软x‑射线波长的两个辐射的斑。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 预测 测量方法 性能 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种检查设备，包括照射系统和检测系统，其中所述照射系统包括源布置，所述源布置用于在辐射产生空间中的第一源部位处产生第一辐射并用于同时在同一辐射产生空间中的第二源部位处产生第二辐射，所述第一辐射和所述第二辐射包括小于100nm的波长，其中所述照射系统的光学系统布置成聚焦来自所述第一源部位和所述第二源部位两者的辐射，以便用所述第一辐射的斑照射第一目标部位，同时用所述第二辐射的斑照射第二目标部位，和其中所述检测系统布置成在一个或更多个第一检测部位处检测所述第一辐射的已经由在所述第一目标部位处的第一目标结构在第一方向上衍射的部分，同时用于在一个或更多个第二检测部位处检测所述第二辐射的已经由定位在所述第二目标部位处的第二目标结构的特征在第二方向上衍射的部分。
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