[发明专利]头发处理装置在审

专利信息
申请号: 201880011339.8 申请日: 2018-02-12
公开(公告)号: CN110290722A 公开(公告)日: 2019-09-27
发明(设计)人: 迦本·维克;玛丽斯·柴斯;斯蒂芬妮·努左 申请(专利权)人: 欧莱雅
主分类号: A45D2/24 分类号: A45D2/24;A45D4/12;A45D20/52
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 何月华
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 一种用于处理至少一绺头发的装置,该装置包括:‑至少一个用于对头发施加机械应力的装置(20),该装置(20)具有用于容纳该头发绺的接收表面,该表面在垂直于所述绺的方向上具有较大的宽度L,‑防微波腔室,该防微波腔室被配置成容纳机械应力施加装置(20)和待处理的头发的至少一部分,‑放置在该腔室内的微波发射天线(30),该天线轴向延伸至少等于L/2的距离D。
搜索关键词: 头发 机械应力 微波腔 容纳 头发处理装置 微波发射天线 接收表面 施加装置 天线轴 垂直 施加 室内 延伸 配置
【主权项】:
1.一种用于处理至少一绺头发的装置,所述装置包括:‑至少一个用于对所述头发施加机械应力的装置(20),所述用于对所述头发施加机械应力的装置(20)具有用于容纳头发绺的接收表面,所述表面在垂直于所述头发绺的方向上具有较大的宽度L,‑防微波腔室(4),所述防微波腔室被配置成容纳所述机械应力施加装置(20)和待处理的所述头发的至少一部分,‑螺旋形微波发射天线(30),所述螺旋形微波发射天线(30)放置在所述机械应力施加装置(20)内,微波的功率是100 W至250 W,所述天线轴向延伸至少等于L/2的距离D。
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