[发明专利]用于等离子体均匀度的径向和方位控制的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201880012847.8 申请日: 2018-01-31
公开(公告)号: CN110326082B 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 小林悟;菅井英夫;N·卡尔宁;S·朴;T·特兰;D·卢博米尔斯基 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖;张鑫
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及用于等离子体均匀度的径向和方位控制的系统和方法。一种系统包括工艺腔室、界定波导空腔的壳体、和在壳体内的第一导电板。第一导电板面向工艺腔室。所述系统还包括至少可调整第一导电板的位置的一个或多个调整装置、以及在波导空腔与工艺腔室之间的与壳体耦接的第二导电板。电磁辐射可经由第二导电板中的孔从波导空腔传播到工艺腔室中。所述系统还包括封闭工艺腔室而与波导空腔隔开的介电板、以及将电磁辐射发送到波导空腔中的一个或多个电子设备组。当至少一种工艺气体在腔室内且电磁辐射从波导空腔传播到工艺腔室中时,形成等离子体。
搜索关键词: 用于 等离子体 均匀 径向 方位 控制 系统 方法
【主权项】:
1.一种产生等离子体以用于处理工件的系统,包括:工艺腔室,所述工艺腔室可操作以用于被抽空;壳体,所述壳体界定波导空腔;第一导电板,所述第一导电板设置在所述壳体内,其中所述第一导电板面向所述工艺腔室并设置在所述波导空腔距所述工艺腔室的远侧上;一个或多个调整装置,所述一个或多个调整装置与所述第一导电板和所述壳体耦接,其中所述一个或多个调整装置可操作以用于在位置范围内至少调整所述第一导电板的位置;第二导电板,所述第二导电板与所述壳体耦接且插入所述波导空腔与所述工艺腔室之间,所述第二导电板中形成多个孔以用于允许所述波导空腔内的电磁辐射经由所述孔传播到所述工艺腔室中;介电板,所述介电板封闭所述工艺腔室而与所述波导空腔隔开,使得当所述工艺腔室被抽空时所述波导空腔不被抽空;以及一个或多个电子设备组,所述一个或多个电子设备组将所述电磁辐射发送到所述波导空腔中,使得当至少一种工艺气体在所述工艺腔室内且所述电磁辐射从所述波导空腔传播到所述工艺腔室中时,形成所述等离子体。
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