[发明专利]溅射靶和生产溅射靶的方法有效
申请号: | 201880013575.3 | 申请日: | 2018-02-19 |
公开(公告)号: | CN110536974B | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
发明(设计)人: | 皮特·波尔契克;西拉德·科洛兹瓦里;保罗·梅尔霍夫;赫尔穆特·里德尔 | 申请(专利权)人: | 普兰西复合材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/34;C22C32/00 |
代理公司: | 北京市万慧达律师事务所 11111 | 代理人: | 李翠;王蕊 |
地址: | 德国滨湖*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于物理气相沉积方法的靶材,其具有由选自铝基材料、钛基材料和铬基材料及其全部组合的复合材料组成的基质,其中所述基质是用掺杂元素掺杂的,并且所述掺杂元素是作为陶瓷化合物或者铝合金的成分而嵌入所述基质中的,以及所述掺杂元素选自镧系元素:La、Ce、Nb、Sm和Eu。本发明还涉及一种生产这样的靶材的方法和这样的靶材在物理气相沉积方法中的用途。 | ||
搜索关键词: | 溅射 生产 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于物理气相沉积方法中的靶材,其具有由选自铝基材料、钛基材料和铬基材料及其全部组合的复合材料组成的基质,其中所述基质是用掺杂元素掺杂的,特征在于所述掺杂元素是作为陶瓷化合物或者铝合金的成分而嵌入在所述基质中的,以及所述掺杂元素选自镧系元素:La、Ce、Nb、Sm和Eu。/n
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