[发明专利]偏振片及偏振片的制造方法在审

专利信息
申请号: 201880014306.9 申请日: 2018-02-20
公开(公告)号: CN110337601A 公开(公告)日: 2019-10-15
发明(设计)人: 后藤周作;森崎真由美 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;B29C55/06;B29K29/00;B29L7/00;B29L9/00;B29L11/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王利波
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种在加湿环境中也能保持优异的光学特性的偏振片。本发明的偏振片具有:包含聚乙烯醇类树脂膜的偏振膜、配置于偏振膜的至少单侧的保护膜、以及覆盖偏振膜及该保护膜的周围端面的密封部。在一个实施方式中,偏振膜的厚度为8μm以下。在一个实施方式中,密封部的透湿度为300g/m2/24hr以下。在一个实施方式中,偏振片在85℃及85%RH环境中保持120小时后的脱色量为100μm以下。
搜索关键词: 偏振片 偏振膜 保护膜 密封部 聚乙烯醇类树脂膜 脱色 光学特性 加湿 覆盖 配置 制造
【主权项】:
1.一种偏振片,其具有:包含含有碘的聚乙烯醇类树脂膜的偏振膜;配置于该偏振膜的至少单侧的保护膜;以及覆盖该偏振膜及该保护膜的周围端面的密封部。
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