[发明专利]表面处理了的碳纳米结构体的制造方法有效

专利信息
申请号: 201880014646.1 申请日: 2018-02-19
公开(公告)号: CN110366536B 公开(公告)日: 2022-11-08
发明(设计)人: 川上修 申请(专利权)人: 日本瑞翁株式会社
主分类号: C01B32/174 分类号: C01B32/174;C01B32/159
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 杨卫萍;刘继富
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种碳纳米结构体,其能够制备分散稳定性优异的碳纳米结构体分散液。本发明的表面处理了的碳纳米结构体的制造方法包含下述工序:减压处理工序,将包含碳纳米结构体和分散介质的含有碳纳米结构体的液体进行减压;表面处理工序,在减压处理工序后或减压处理工序中向含有碳纳米结构体的液体中添加氧化剂,使碳纳米结构体的表面氧原子浓度为7.0at%以上。在此,碳纳米结构体优选包含碳纳米管。
搜索关键词: 表面 处理 纳米 结构 制造 方法
【主权项】:
1.一种表面处理了的碳纳米结构体的制造方法,包含:减压处理工序,将包含碳纳米结构体和分散介质的含有碳纳米结构体的液体进行减压;表面处理工序,在所述减压处理工序后或所述减压处理工序中,向所述含有碳纳米结构体的液体中添加氧化剂,使所述碳纳米结构体的表面氧原子浓度为7.0at%以上。
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