[发明专利]用于使两个光学子系统对准的方法和装置有效
| 申请号： | 201880015340.8 | 申请日： | 2018-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN110366773B | 公开（公告）日： | 2023-10-20 |
| 发明（设计）人： | B·珀瓦佐伊 | 申请（专利权）人： | EV集团E·索尔纳有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/68;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 孙云汉;闫小龙 |
| 地址： | 奥地利圣*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出了一种用于使两个透镜对准的方法和装置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 两个 光学 子系统 对准 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于使光学系统（11、11'、11"）的两个对置地、尤其是相叠地布置的光学子系统（12u、12u'、12u"、12o、12o'、12o"）对准的方法，所述方法具有如下步骤：‑ 将对准标记（9l、9r、9l'、9r'）投影到第一、尤其是下方的光学子系统（12u、12u'、12u"）的投影面（5u）中，‑ 将所述对准标记（9l、9r、9l'、9r'）从第一投影面（5u）投影到第二、尤其是上方的光学子系统（12o、12o'、12o"）的敏感表面（14so）上，‑ 使所述光学子系统（12u、12u'、12u"、12o、12o'、12o"）相对于彼此对准，使得所述对准标记（9l、9r、9l'、9r'）的投影（9pl、9pr）在所述敏感表面（14so）的景深范围内成像于理想的位置（9il、9ir）。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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