[发明专利]用于X射线发生器的冷却装置有效
申请号: | 201880015563.4 | 申请日: | 2018-03-06 |
公开(公告)号: | CN110383954B | 公开(公告)日: | 2023-06-20 |
发明(设计)人: | B·霍伊夫特;W·伯斯特尔 | 申请(专利权)人: | 霍伊夫特系统技术有限公司 |
主分类号: | H05G1/02 | 分类号: | H05G1/02 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘盈 |
地址: | 德国布*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 用于X射线发生器中的X射线管的冷却装置,所述冷却装置包括壳体,所述壳体具有用于容纳X射线管的中央容纳装置、用于导入气态冷却介质的进入口、用于导出气态冷却介质的排出口以及在所述进入口与所述排出口之间延伸的气体引导通道。所述气体引导通道这样实施,使得其在运行中将所述气态冷却介质直接在X射线管的处于高压的壳体旁边引导经过。此外,所述气体引导通道螺旋形地围绕X射线管延伸,从而使施加在X射线管上的电势沿着气体引导通道下降直至零电势。 | ||
搜索关键词: | 用于 射线 发生器 冷却 装置 | ||
【主权项】:
1.用于X射线发生器中的X射线管的冷却装置,所述冷却装置包括壳体,所述壳体具有:‑用于容纳X射线管的中央容纳装置,‑用于导入气态冷却介质的进入口,‑用于导出气态冷却介质的排出口,以及‑在所述进入口与所述排出口之间延伸的气体引导通道,其中,所述气体引导通道实施为使得其在运行中将所述气态冷却介质直接在X射线管的处于高压的壳体旁边引导经过,并且其中,所述气体引导通道螺旋形地围绕X射线管延伸,从而使施加在X射线管的电势沿着气体引导通道下降直至零电势。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于霍伊夫特系统技术有限公司,未经霍伊夫特系统技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880015563.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。