[发明专利]涂覆产品和生产方法在审
申请号: | 201880016991.9 | 申请日: | 2018-03-01 |
公开(公告)号: | CN110418858A | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 卡尔·布伦弗里克;约翰内斯·格蕾;丹尼斯·马斯库特;沃尔克·劳胡特 | 申请(专利权)人: | 申克碳化技术股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/02 | 分类号: | C23C16/02;C23C16/04;C23C16/24;C23C16/34;C23C16/56 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋融冰 |
地址: | 德国霍伊*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于生产产品的方法、一种坩埚和结晶氮化硅的层的用途,其中该产品由主要由碳或陶瓷材料组成的材料制成,其中该产品通过化学气相沉积(CVD)用表面层涂覆,其中该产品用至少半结晶氮化硅(Si3N4),优选结晶氮化硅(Si3N4)的表面层涂覆,且其中该表面层在高于1100℃至1700℃的工艺温度下形成于所述产品上。 | ||
搜索关键词: | 表面层 氮化硅 涂覆 化学气相沉积 生产产品 陶瓷材料 涂覆产品 半结晶 坩埚 优选 生产 | ||
【主权项】:
1.一种用于制备产品,特别是物体的方法,所述产品由主要由碳或主要由陶瓷材料组成的材料形成,所述产品通过化学气相沉积(CVD)用表面层涂覆,其特征在于所述产品用至少半结晶氮化硅(Si3N4),优选结晶氮化硅(Si3N4)的表面层涂覆,所述表面层在高于1100℃至1700℃,优选高于1200℃至1550℃,特别是高于1300℃至1500℃的工艺温度下形成于所述产品上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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