[发明专利]旋转照射装置及其旋转照射方法以及旋转照射治疗装置有效
| 申请号： | 201880017816.1 | 申请日： | 2018-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN110418667B | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 野中智幸;松田晋弥;折笠朝文 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;东芝能源系统株式会社 |
| 主分类号： | G21K1/093 | 分类号： | G21K1/093;A61N5/10;G21K5/04;H05H7/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 房永峰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 实施方式的旋转照射装置具备：旋转机架(3)；超导电磁铁(5)，设置于旋转机架(3)，并且形成使带电粒子束的轨道偏转的偏转磁场和使带电粒子束聚束的聚束磁场中的至少一方，将带电粒子束引导至照射对象；旋转机架驱动部(24)，旋转驱动旋转机架(3)；以及控制装置(20)，控制旋转机架驱动部(24)，以在超导电磁铁(5)被励磁的期间，使旋转机架(3)旋转并停止。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转 照射 装置 及其 方法 以及 治疗 | ||
【主权项】：
1.一种旋转照射装置，其特征在于，具备：旋转机架；超导电磁铁，设置于所述旋转机架，并且形成使带电粒子束的轨道偏转的偏转磁场和使所述带电粒子束聚束的聚束磁场中的至少一方，将所述带电粒子束引导至照射对象；旋转机架驱动部，旋转驱动所述旋转机架；以及控制装置，控制所述旋转机架驱动部，以在所述超导电磁铁被励磁的期间使所述旋转机架旋转并停止。
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