[发明专利]双重气体轴承基底定位系统有效
申请号: | 201880017990.6 | 申请日: | 2018-02-28 |
公开(公告)号: | CN110402302B | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | T.M.斯帕思 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/458;C23C16/455;F16C32/06;H01L21/677 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周蓉;杨思捷 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 双重气体轴承系统包括真空预压气体轴承、基底和气体轴承支撑器。将真空预压气体轴承以固定位置安装到机器底座。该基底具有面向真空预压气体轴承的输出面的第一表面和面向气体轴承支撑器的输出面的相对的第二表面。气体轴承在垂直于真空预压气体轴承的输出面的方向上可自由移动。通过真空预压气体轴承的输出面的气流将第一净力赋予基底的第一表面上,且通过气体轴承支撑器的气流将第二净力赋予基底的第二表面上,其中第二净力和气体轴承支撑器的输出面之间的间隙与基底的位置和厚度无关。 | ||
搜索关键词: | 双重 气体 轴承 基底 定位 系统 | ||
【主权项】:
1.双重气体轴承系统,其包含:具有输出面的真空预压气体轴承,其中所述真空预压气体轴承以固定位置安装于机器底座;基底,其具有面向所述真空预压气体轴承的输出面的第一表面和相对的第二表面,其中所述基底的位置可在垂直于所述真空预压气体轴承的输出面的方向上移动,且其中通过所述真空预压气体轴承的输出面的气流将第一净力赋予到所述基底的第一表面上;和气体轴承支撑器,其具有面向所述基底的第二表面的输出面, 其中所述气体轴承支撑器可在垂直于所述真空预压气体轴承的输出面的方向上自由移动,且其中通过所述气体轴承支撑器的输出面的气流将第二净力赋予到所述基底的第二表面上,并提供所述气体轴承支撑器的输出面与所述基底的第二表面之间的间隙,且其中所述第二净力和所述气体轴承支撑器的输出面与所述基底的第二表面之间的间隙与所述基底的位置和厚度无关。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊斯曼柯达公司,未经伊斯曼柯达公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880017990.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的