[发明专利]一种圆柱形氧化钛溅射靶及其制备方法有效
| 申请号： | 201880018170.9 | 申请日： | 2018-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN110418857B | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | M·舒尔泰斯;C·西蒙斯;M·施洛特 | 申请（专利权）人： | 万腾荣先进材料德国有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C03C17/245;C04B35/00;C23C4/16;C23C4/11;C23C4/134 |
| 代理公司： | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 | 代理人： | 桑传标 |
| 地址： | 德国阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
所称的圆柱形溅射靶包括基材和在所述基材上形成层的靶材料，所述层具有厚度d，其中所述靶材料含有TiO |
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| 搜索关键词： | 一种 圆柱形 氧化 溅射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种圆柱形溅射靶，包括基材和在基材上形成层的靶材料，所述层的厚度为d，其中所述靶材料包含作为主要成分的TiOx，并且x在1<x<2的范围内，其特征在于，d大于10mm且x在1.45<x<1.7的范围内。
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