[发明专利]TiAlN膜的铝含量控制有效
| 申请号： | 201880018717.5 | 申请日： | 2018-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN110709534B | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 张闻宇;唐薇;杨逸雄;林政汉;徐翼;雷雨;吉田尚美;董琳;德鲁·菲利普斯;斯里维迪亚·纳塔拉詹;阿塔什·巴苏;卡利亚潘·穆图库马尔;大卫·汤普森;马伯方 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C16/34 | 分类号： | C23C16/34;C23C16/14;C23C16/44;C23C16/56 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 沉积具有受控制量的碳的氮化铝钛膜的方法。所述方法包括将基板表面暴露于钛前驱物、氮反应物和铝前驱物，其中在每次暴露之间进行净化。 | ||
| 搜索关键词： | tialn 含量 控制 | ||
【主权项】：
1.一种在基板表面上沉积TiAlN膜的方法，所述方法包括：/n将所述基板表面暴露于钛前驱物以在所述基板表面上形成含钛膜；/n从所述基板表面净化未反应的钛前驱物；/n将所述基板表面上的所述含钛膜暴露于氮反应物以在所述基板表面上形成TiN膜；/n从所述基板表面净化未反应的氮反应物；和/n将所述基板表面上的所述TiN膜暴露于铝前驱物以形成TiAlN膜。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
