[发明专利]比色测定有效

专利信息
申请号: 201880018998.4 申请日: 2018-02-09
公开(公告)号: CN110770572B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 斯蒂芬·Y·周;丁惟;戚骥;张玙璠 申请(专利权)人: ESSENLIX公司
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25;G01N21/47;G01N21/01;G02B5/02;G01N21/17
代理公司: 北京百欧知识产权代理事务所(普通合伙) 11930 代理人: 吴泳历
地址: 美国新泽西州*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明“用于在样品测定中增加光学信号的装置和方法”,涉及检测技术,所述装置包括第一板、第二板、间隔件和光散射层,其中:i.所述第一板和第二板可相对于彼此移动成不同的构造,包括开放构造和闭合构造,并且所述板在其各自的内表面上具有用于接触含有分析物的样品的样品接触区域;ii.一个或两个板是柔性的;iii.第一板对于光是透明的;iv.所述光散射层设置在所述第二板在其内表面上,所述光散射层具有粗糙拓扑并散射照射在其表面上的光;从中可以获得诸如比色或荧光信号的光学信号用于分析样品。
搜索关键词: 比色 测定
【主权项】:
1.在一些实施例中,所述装置包含:/n第一板、第二板、间隔件和光散射层,其中:/ni.所述第一板和第二板可相对于彼此移动成不同的构造,并且在其各自的内表面上具有用于接触含有分析物的样品的样品接触区域;/nii.一个或两个所述板是柔性的;/niii.所述第一板是透光的,且/niv.所述第二板基本上反射光且包含内表面光散射层,其具有粗糙拓扑糙度;/n其中,所述构造中的一个是开放构造,其中:两个板的内表面之间的平均间距小于200μm,并且所述样品沉积在一个或两个所述板上;/n其中,所述构造中的另一个是闭合构造,其是在所述样品沉积在所述开放构造中之后配置的,并且在所述闭合构造中:所述样品的至少一部分在所述两块板之间并且所述板的内表面之间的平均间距小于200μm;并且/n其中在所述闭合构造中,所述光散射层增强捕获所述两块板的内表面之间的探测光。/n在一些实施例中,在所述装置中,所述第二板的光散射表面包含:/ni.所述纹理表面可以是,但不限于凸起的、波状的粗糙表面;/nii.所述纹理表面可以是周期性的或非周期性的;/niii.所述纹理表面的平均粗糙度范围优选为,但不限于2μm-5μm;/nvi.所述间隔件固定于所述第一板的内表面并具有预定的均匀高度;且/nv.它们的组合/nC1.如任何前述实施例所述的装置或系统,其中光散射层可由反射率为至少50%、60%、70%、80%、90%、100%或在任意两个值之间的范围内的高反射率不透明白色材料制成。/nC2.如任一前述实施例所述的装置或系统,其中光散射表面的反射光谱在300nm到1000nm的范围内。/nC3.如任何前述实施例所述的装置或系统,其中光散射层可由半透明白色材料制成,并且透射率为10%-30%。/nC4.如任何前述实施例所述的装置或系统,其中光散射层可由金属反射膜制成,其中光散射层可由不透明白色介电膜制成。/nC5.如任何前述实施例所述的装置或系统,其中光散射层具有Ra(算术平均粗糙度)为0.5μm到200μm、R
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