[发明专利]半导体器件用基板的清洗液、半导体器件用基板的清洗方法、半导体器件用基板的制造方法和半导体器件用基板

摘要

本发明涉及一种半导体器件用基板的清洗液，该清洗液的pH为8以上11.5以下，该清洗液含有：成分(A)：含有选自由下述通式(1)～(3)所表示的化合物组成的组中的至少一种的化合物；成分(B)：抗坏血酸；成分(C)：多元羧酸或羟基羧酸；成分(D)：pH调节剂；以及成分(E)：水。(所述式中，R¹～R⁶、R¹¹～R¹⁷和R²¹～R²⁸分别与说明书中记载的定义相同。)

主权项

1.一种半导体器件用基板的清洗液，该清洗液的pH为8以上11.5以下，该清洗液含有以下的成分(A)～(E)，成分(A)：含有选自由下述通式(1)～(3)所表示的化合物组成的组中的至少一种的化合物，[化1]所述通式(1)中，R¹～R⁶各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～4的烷基、羧基、羰基或具有酯键的官能团，[化2]所述通式(2)中，R¹¹～R¹⁷各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～4的烷基、羧基、羰基或具有酯键的官能团，[化3]所述通式(3)中，R²¹～R²⁸各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～4的烷基、羧基、羰基或具有酯键的官能团；成分(B)：抗坏血酸；成分(C)：多元羧酸或羟基羧酸；成分(D)：pH调节剂；成分(E)：水。