[发明专利]用于移除半导体基板上的残余物的清洁组合物有效
| 申请号： | 201880020378.4 | 申请日： | 2018-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN110475845B | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | J·G·麦卡平;T·多瑞 | 申请（专利权）人： | 富士胶片电子材料美国有限公司 |
| 主分类号： | C11D3/28 | 分类号： | C11D3/28;C11D3/30;C11D3/33;C11D7/50 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 艾佳 |
| 地址： | 美国罗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开关于清洁组合物，其含有1)至少一种氧化还原剂；2)至少一种水溶性有机溶剂；3)至少一种含金属添加剂；4)至少一种环胺，及5)水。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 基板上 残余物 清洁 组合 | ||
【主权项】：
1.一种清洁组合物，其包含：/n1)至少一种氧化还原剂；/n2)至少一种水溶性有机溶剂；/n3)至少一种含金属添加剂；/n4)至少一种环胺；及/n5)水。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片电子材料美国有限公司，未经富士胶片电子材料美国有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880020378.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：气体改性炉
- 下一篇：甜菊醇糖苷在麦芽制造中的用途
