[发明专利]聚丙烯膜、金属膜叠层膜和膜电容器以及它们的制造方法在审
申请号: | 201880020648.1 | 申请日: | 2018-03-27 |
公开(公告)号: | CN110461915A | 公开(公告)日: | 2019-11-15 |
发明(设计)人: | 今西康之;大仓正寿;冈田一马;中西佑太 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;B29C55/14;B32B15/085;H01G4/18;H01G4/32 |
代理公司: | 11247 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 王磊;段承恩<国际申请>=PCT/JP2 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种聚丙烯膜,是膜厚度为0.5μm以上且小于10μm的聚丙烯膜,通过三维非接触表面形状测定仪(VertSCAN)的截面解析测得的至少一个方向的JIS‑Rz为40~450nm,Ra为5~30nm,Rt为50~500nm。提供即使在高温环境下也显示高绝缘击穿电压,在制成电容器时即使在高温环境下也可以表现耐电压性和可靠性的聚丙烯膜、金属膜叠层膜和膜电容器以及它们的制造方法。 | ||
搜索关键词: | 聚丙烯膜 高温环境 电容器 非接触表面 形状测定仪 击穿电压 膜电容器 耐电压性 叠层膜 高绝缘 金属膜 解析 三维 制造 表现 | ||
【主权项】:
1.一种聚丙烯膜,其特征在于,是膜厚度为0.5μm以上且小于10μm的聚丙烯膜,通过三维非接触表面形状测定仪VertSCAN的截面解析测得的至少一个方向的JIS-Rz为40~450nm,Ra为5~30nm,Rt为50~500nm。/n
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