[发明专利]电子射线产生装置以及电子射线应用装置有效
| 申请号： | 201880021419.1 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN110462780B | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 西谷智博;小泉淳;川俣智章;鹿野悠 | 申请（专利权）人： | 日商光电魂股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/073 | 分类号： | H01J37/073 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 金英花 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种易于维护的电子射线产生装置以及电子射线应用装置。电子射线产生装置(1)包括真空腔室(2)、光电阴极支架(3)、活性化容器(4)以及腔室内动力传递部件(5b)。光电阴极支架能够相对于活性化容器移动。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 射线 产生 装置 以及 应用 | ||
【主权项】：
1.一种电子射线产生装置，包括：/n真空腔室；/n光电阴极支架，配置在所述真空腔室内，用于支撑光电阴极材料；/n活性化容器，配置在所述真空腔室内，用于支撑降低所述光电阴极材料的电子亲和力的表面处理材料；以及/n腔室内动力传递部件，配置在所述真空腔室内，对所述光电阴极支架或所述活性化容器传递驱动力，/n所述光电阴极支架能够相对于所述活性化容器移动。/n
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