[发明专利]二氧化硅粒子有效
| 申请号： | 201880021559.9 | 申请日： | 2018-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN110461768B | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | 西村仁希;小野勇二;芝崎将一 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本触媒 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18;C08F292/00;C08K3/36;C08K9/04;C08L101/00;C09C1/30;C09C3/08 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 刘兵;戴香芸 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明的课题在于提供可提供均匀性良好的二氧化硅粒子分散体的二氧化硅粒子。本发明的二氧化硅粒子，其为根据BET法由比表面积算出的平均一次粒径d |
||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 粒子 | ||
【主权项】：
1.一种二氧化硅粒子，其根据BET法由比表面积算出的dBET为1nm以上100nm以下，并且，根据动态光散射法测定的dDLS与所述dBET之比(dDLS/dBET)为1.2以下。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日本触媒，未经株式会社日本触媒许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880021559.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
