[发明专利]可研磨涂层在审
| 申请号： | 201880021789.5 | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN110612360A | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | R·K·施密德;M·金德拉;G·辛德尔曼 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康美科股份公司;沃伦 |
| 主分类号： | C23C4/02 | 分类号： | C23C4/02;C23C28/00;C23C4/11;C23C4/134 |
| 代理公司： | 72001 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 周蓉;杨戬 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 公开了一种形成可研磨涂层的方法。该方法包括：(i)形成等离子体；(ii)引入涂层材料，其呈具有1至50μm范围内的颗粒的粉末形式，由递送气体携带进入等离子体，该等离子体具有足够高的比焓，以用于至少部分熔融一些粉末并汽化至少5重量％的粉末，以便形成蒸气和颗粒的蒸气相云；(iii)通过维持介于50和2000Pa之间的工艺压力形成等离子体束；(iv)通过维持介于50和2000Pa之间的工艺压力使等离子体束散焦；和(v)由蒸气相云在基底表面上形成可研磨涂层，其为绝缘层体系的一部分，该可研磨涂层包含柱状结构。有利地，该柱状结构的可研磨涂层(40，41)具有小于30s/mil，优选在5至27s/mil范围内，更优选在10‑25s/mil范围内，还更优选在15‑20s/mil范围内的耐腐蚀性。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 等离子体 优选 等离子体束 工艺压力 柱状结构 蒸气相 绝缘层 汽化 粉末形式 基底表面 耐腐蚀性 气体携带 涂层材料 递送 比焓 熔融 散焦 引入 | ||
【主权项】：
1.一种形成可研磨涂层(40，41)的方法，其包括：/n-形成等离子体；/n-引入涂层材料，其呈具有1至50μm范围内的颗粒的粉末形式，由递送气体携带进入等离子体，所述等离子体具有足够高的比焓，以用于至少部分熔融一些所述粉末并汽化至少5重量％的所述粉末，以便形成蒸气和颗粒的蒸气相云；/n-通过维持介于50和2000Pa之间的工艺压力形成等离子体束；/n-使包括所述蒸气相云的所述等离子体束散焦；和/n-由所述蒸气相云在基底(10，11)表面上形成可研磨涂层(40，41)，其为绝缘层体系(20，30，40；21，31，41)的一部分，所述可研磨涂层包含柱状结构(49)。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
