[发明专利]密封件的配置构造有效
申请号: | 201880022045.5 | 申请日: | 2018-03-07 |
公开(公告)号: | CN110520658B | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 梅田胜久;上田彰;南畅;永野晃广 | 申请(专利权)人: | 株式会社华尔卡 |
主分类号: | F16J15/48 | 分类号: | F16J15/48;F16J15/18;F16J15/3232 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 密封件的配置构造包括:第1构件(31),其具有第1配合面(32)并形成有槽部(33);第2构件(21),其具有第2配合面(22),该第2构件(21)相对于第1构件(31)相对地运动;以及环状的密封件(100),其容纳于槽部(33)且将第1构件(31)与第2构件(21)之间密封,该密封件(100)划分出大气侧空间(110)和加压侧空间(120)。密封件(100)包含多个第1突部(12),该多个第1突部(12)朝向第2配合面(22)突出,且自大气侧空间(110)朝向加压侧空间(120)排列。密封件(100)在未容纳于槽部(33)的状态下具有如下形状:自配置于加压侧空间(120)的附近的第1突部(12)越向配置于大气侧空间(110)的附近的第1突部(12)去而第1突部(12)的突出高度越阶梯式地变大。 | ||
搜索关键词: | 密封件 配置 构造 | ||
【主权项】:
1.一种密封件的配置构造,其中,/n该密封件的配置构造包括:/n第1构件,其具有第1配合面并形成有自所述第1配合面凹陷且呈环状延伸的槽部;/n第2构件,其具有与所述第1配合面相面对的第2配合面,该第2构件相对于所述第1构件相对地运动;以及/n环状的密封件,其容纳于所述槽部且将所述第1构件与所述第2构件之间密封,该密封件划分出第1空间和具有比所述第1空间的压力大的压力的第2空间,/n所述密封件包含多个第1突部,该多个第1突部朝向所述第2配合面突出,且自所述第1空间朝向所述第2空间排列,/n所述密封件在未容纳于所述槽部的状态下具有如下形状:自配置于所述第2空间的附近的所述第1突部越向配置于所述第1空间的附近的所述第1突部去而所述第1突部的突出高度越阶梯式地变大。/n
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