[发明专利]用于采集电磁场的波前的断层成像分布的方法和光学系统有效
| 申请号： | 201880023516.4 | 申请日： | 2018-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN110476043B | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | J·J·费尔南德斯·瓦尔迪维亚;J·M·特鲁希略·塞维利亚;奥斯卡·戈麦斯·卡德内斯 | 申请（专利权）人： | 伍普提克斯股份有限公司 |
| 主分类号： | G01J9/00 | 分类号： | G01J9/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 西班牙*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学系统(100)中所使用的光的波前(104)的二维重建的方法，包括：测量具有光程差的不同光学平面(101、102)处的至少两个图像中的光强度的分布函数。特别地，该方法适于利用图像检测器，例如任何标准二维照相机，来探测电磁场的波前的断层成像分布。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 采集 电磁场 断层 成像 分布 方法 光学系统 | ||
【主权项】：
1.一种光学系统(100)中所使用的光的波前(104)的二维重建的方法，包括：/n测量具有光程差的不同光学平面(101、102)处的至少两个图像中的光强度的分布函数。/n
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