[发明专利]透射小角度X射线散射计量系统在审

专利信息
申请号: 201880023876.4 申请日: 2018-04-13
公开(公告)号: CN110546489A 公开(公告)日: 2019-12-06
发明(设计)人: A·舒杰葛洛夫;A·吉里纽;S·佐卢布斯基 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: G01N23/201 分类号: G01N23/201;G01N23/207
代理公司: 11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 刘丽楠<国际申请>=PCT/US2018
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本文中描述用于通过具有相对小工具占用面积的透射小角度x射线散射测量TSAXS系统表征半导体装置的尺寸及材料性质的方法及系统。本文中描述的所述方法及系统实现适合用于具有减小的光学路径长度的半导体结构的计量的Q空间分辨率。一般来说,所述x射线光束针对相对小目标经聚焦更接近晶片表面且针对相对大目标经聚焦更接近检测器。在一些实施例中,采用具有小点扩散函数PSF的高分辨率检测器以缓解对可实现Q分辨率的检测器PSF限制。在一些实施例中,所述检测器通过确定由光子转换事件刺激的电子云的质心而以子像素准确度定位入射光子。在一些实施例中,除了入射位置之外,所述检测器还分辨一或多个x射线光子能量。
搜索关键词: 检测器 光子 电子云 聚焦 半导体结构 半导体装置 尺寸及材料 接近检测器 空间分辨率 高分辨率 光学路径 晶片表面 入射位置 散射测量 系统表征 系统实现 转换事件 准确度 小工具 小目标 子像素 分辨率 透射 减小 入射 小点 质心 分辨 计量 占用 扩散 刺激 缓解
【主权项】:
1.一种计量系统,其包括:/nx射线照明源,其经配置以产生一定量的x射线辐射;/nx射线照明光学器件子系统,其经配置以使用所述一定量的x射线辐射的入射聚焦光束照明形成于晶片表面上的测量目标;/n样品定位系统,其将所述测量目标定位于相对于所述入射聚焦光束的多个定向处;/nx射线检测器,其经配置以响应于每一定向处的所述入射聚焦光束而检测与从所述测量目标散射的一定量的辐射的多个衍射级中的每一者相关联的强度,其中所述照明源与所述检测器之间的光学路径长度小于3米;及/n计算系统,其经配置以/n基于所述多个不同定向处的所述多个衍射级的所述检测到的强度确定与所述测量目标相关联的所关注参数的值。/n
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