[发明专利]用于将X射线光栅对准到X射线辐射源的设备和方法以及X射线图像采集系统有效

专利信息
申请号: 201880024793.7 申请日: 2018-12-10
公开(公告)号: CN110621230B 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: C·科克;G·福格特米尔;T·克勒;J·W·M·雅各布斯;S·乌尼克里希南;D·赫尔梅斯;A·M·B·范莫尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司;荷兰应用科学研究会(TNO)
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 孟杰雄
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于将X射线光栅对准到X射线辐射源的设备,所述设备(10)包括:至少两个平面X射线光栅段(11‑19);至少一个对准单元(31‑39),其用于对准至少两个平面X射线光栅段之一;其中,至少两个平面X射线光栅段(11‑19)并排布置并形成X射线光栅(20);其中,至少两个平面X射线光栅段(11‑19)均包括用于X射线辐射的光栅表面(41‑49),每个光栅表面(41‑49)包括几何中心;其中,光栅表面(41‑49)的中每个的法线(21‑29)定义公共平面(73),其中,法线(21‑29)与光栅表面(41‑49)的几何中心相交;其中,至少两个平面X射线光栅段(11‑19)中的至少第一平面X射线光栅段能绕垂直于公共平面(73)的轴(131‑139)旋转;并且其中,至少两个平面X射线光栅段(11‑19)中能绕轴(131‑139)旋转的第一平面X射线光栅段连接到至少一个对准单元(31‑39)中的第一对准单元。本发明提供了提供改进的X射线光栅(20)的设备(10)和方法(100)。
搜索关键词: 用于 射线 光栅 对准 辐射源 设备 方法 以及 图像 采集 系统
【主权项】:
1.一种用于将X射线光栅对准到X射线辐射源的设备,所述设备(10)包括:/n-至少两个平面X射线光栅段(11-19);/n-至少一个对准单元(31-39),其用于对准所述至少两个平面X射线光栅段中的一个平面X射线光栅段;/n其中,所述至少两个平面X射线光栅段(11-19)被并排布置并且形成X射线光栅(20);/n其中,所述至少两个平面X射线光栅段(11-19)中的每个平面X射线光栅段包括用于X射线辐射的光栅表面(41-49),每个光栅表面(41-49)包括几何中心;/n其中,所述光栅表面(41-49)中的每个光栅表面的法线(21-29)定义公共平面(73),其中,所述法线(21-29)与所述光栅表面(41-49)的所述几何中心相交;/n其中,所述至少两个平面X射线光栅段(11-19)中的至少第一平面X射线光栅段能绕垂直于所述公共平面(73)的轴(131-139)旋转;并且/n其中,所述至少两个平面X射线光栅段(11-19)中的所述第一平面X射线光栅段连接到所述至少一个对准单元(31-39)中的第一对准单元。/n
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