[发明专利]耐久的低辐射率窗膜构造有效
| 申请号： | 201880025004.1 | 申请日： | 2018-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN110506091B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 拉古纳特·帕迪亚斯;格雷戈里·F·金;斯蒂芬·P·梅基 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/30 | 分类号： | C09J7/30;B32B15/04 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 孙微;金小芳 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在某些实施方案中，本公开涉及低辐射率膜和包括该低辐射率膜的制品。其它实施方案涉及降低制品的辐射率的方法，该方法包括使用低辐射率膜。在一些实施方案中，低辐射率膜包括金属层和一对层，一层包含金属氧化物诸如氧化锌锡，而另一层包含硅化合物、与金属层的两侧中的每侧相邻。这种类型的组件可用于各种目的，包括用作太阳隔热膜。这些构造可用作例如窗用玻璃单元上的窗膜，以用于减少红外线辐射在两个方向上的跨膜透射。 | ||
| 搜索关键词： | 耐久 辐射 率窗膜 构造 | ||
【主权项】：
1.一种膜，所述膜包括以列举的顺序彼此紧邻的以下元件：/n·基材；/n·第一辐射固化的丙烯酸酯层；/n·第一包含硅化合物的层，其中所述硅化合物选自氧化硅铝、氧氮化硅铝、氧化硅、氧氮化硅、氮化硅、氮化硅铝以及它们的组合，和/n·第一包含氧化锌锡的层，其中所述层具有4nm至8nm的厚度；/n·金属层；/n·第二包含氧化锌锡的层，其中所述层具有4nm至8nm的厚度；/n·第二包含硅化合物的层，其中所述硅化合物选自氧化硅铝、氧氮化硅铝、氧化硅、氧氮化硅、氮化硅、氮化硅铝以及它们的组合，和/n·第二辐射固化的丙烯酸酯层；/n其中所述膜具有小于0.2的辐射率/n其中所述第一包含硅化合物的层的厚度加上所述第一包含氧化锌锡的层的厚度之和为15nm至30nm，/n其中所述第二包含硅化合物的层的厚度加上所述第二包含氧化锌锡的层的厚度之和为9nm至15nm。/n
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