[发明专利]基于光学散射测量的工艺稳健叠加计量在审
| 申请号： | 201880025696.X | 申请日： | 2018-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN110520715A | 公开（公告）日： | 2019-11-29 |
| 发明（设计）人： | S·潘戴夫;陆伟;A·舒杰葛洛夫 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/47;G01N21/95 |
| 代理公司： | 11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 刘丽楠<国际申请>=PCT/US2018 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述用于基于训练测量模型的稳固叠加误差测量的方法及系统。从由基于散射测量的叠加计量系统从实验设计DOE晶片收集的原始散射测量数据训练所述测量模型。每一测量位点包含以编程叠加变化及已知工艺变化制造的一或多个计量目标。以已知计量系统变化测量每一测量位点。以此方式，所述测量模型经训练以使实际叠加与影响叠加测量的工艺变化及计量系统变化分离。因此，由所述训练测量模型估计实际叠加对工艺变化及计量系统变化具稳固性。基于从用于执行测量的相同计量系统收集的散射测量数据来训练所述测量模型。因此，所述测量模型对系统误差、不对称性等等不敏感。 | ||
| 搜索关键词： | 测量模型 计量系统 叠加 工艺变化 测量 散射测量数据 位点 变化测量 不对称性 晶片收集 散射测量 实验设计 误差测量 系统误差 不敏感 稳固性 编程 计量 稳固 制造 | ||
【主权项】：
1.一种基于散射测量的计量系统，其包括：/n照明源，其经配置以将照明光量提供到多个叠加计量目标，其中以不同的已知编程叠加值及至少一个制造工艺变量的不同已知值制造所述多个计量目标；/n检测器，其经配置以响应于所述照明光而检测从所述多个叠加目标的每一者散射的光量的图像，所述图像由所述检测器的多个像素检测，所述检测图像像素包括训练数据量；及/n计算系统，其经配置以：/n估计与所述多个叠加计量目标中的每一者相关联的实际叠加的值；及/n基于实际叠加的所述估计值及所述训练数据量来训练测量模型。/n
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