[发明专利]使用同时存在的原位和远程等离子体源进行快速室清洁有效
| 申请号： | 201880026126.2 | 申请日： | 2018-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN110537241B | 公开（公告）日： | 2023-06-20 |
| 发明（设计）人： | 基思·福克斯;乔纳森·丘奇;詹姆斯·李;马修·马德洛;凯文·戈伯 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠;张静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及使用同时存在的原位和远程等离子体源进行快速室清洁。一种用于清洁衬底处理系统的处理室的方法包括：向远程等离子体源(RPS)供应三氟化氮(NF |
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| 搜索关键词： | 使用 同时 存在 原位 远程 等离子体 进行 快速 清洁 | ||
【主权项】：
1.一种用于清洁衬底处理系统的处理室的方法，其包括：/n向远程等离子体源(RPS)供应三氟化氮(NF3)气体；/n使用所述RPS产生RPS等离子体；/n向所述处理室供应所述RPS等离子体；/n将NF3气体作为旁路气体供应至所述处理室；/n在供应所述RPS等离子体的同时在所述处理室中激励原位等离子体；并且/n在清洁时间段期间使用所述RPS等离子体和所述原位等离子体两者清洁所述处理室。/n
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