[发明专利]氧化铈系复合微粒分散液、其制造方法及包含氧化铈系复合微粒分散液的研磨用磨粒分散液有效
| 申请号： | 201880026476.9 | 申请日： | 2018-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN110582465B | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | 小松通郎;西田广泰;俵迫祐二;碓田真也;中山和洋 | 申请（专利权）人： | 日挥触媒化成株式会社 |
| 主分类号： | C01B33/12 | 分类号： | C01B33/12;B24B37/00;C01F17/235;C01F17/10;C09G1/02;C09K3/14;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供即使对于二氧化硅膜、Si晶片、难加工材料也能够高速地进行研磨、同时能够实现高面精度的氧化铈系复合粒子分散液。通过氧化铈系复合微粒分散液，从而解决了上述课题，所述氧化铈系复合微粒分散液包含具备下述特征的平均粒径为50～350nm的氧化铈系复合微粒。氧化铈系复合微粒具有母粒、含有铈的二氧化硅层、子粒和包含易溶解性二氧化硅的层，母粒以非晶质二氧化硅作为主成分，子粒以结晶性氧化铈作为主成分。包含易溶解性二氧化硅的层的质量相对于氧化铈系复合微粒的质量而言的比例在特定范围内。就氧化铈系复合微粒而言，二氧化硅与氧化铈的质量比在特定范围内。氧化铈系复合微粒供于X射线衍射时，仅检测到氧化铈的结晶相。氧化铈系复合微粒供于X射线衍射而测得的结晶性氧化铈的平均微晶直径为10～25nm。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 复合 微粒 分散 制造 方法 包含 研磨 用磨粒 | ||
【主权项】：
1.氧化铈系复合微粒分散液，其包含具备下述[1]至[3]的特征的平均粒径为50～350nm的氧化铈系复合微粒，/n[1]所述氧化铈系复合微粒具有母粒、所述母粒的表面上的含有铈的二氧化硅层、和在所述含有铈的二氧化硅层的内部分散的子粒；/n[2]所述母粒以非晶质二氧化硅作为主成分，所述子粒以结晶性氧化铈作为主成分；/n[3]所述氧化铈系复合微粒供于X射线衍射而测得的所述结晶性氧化铈的平均微晶直径为10～25nm。/n
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