[发明专利]多层结构，用于制造多层结构的方法，以及相关制品有效
| 申请号： | 201880027059.6 | 申请日： | 2018-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN110545995B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 王刚;徐静怡;潘健平;云小兵 | 申请（专利权）人： | 陶氏环球技术有限责任公司 |
| 主分类号： | B32B7/022 | 分类号： | B32B7/022;B32B27/08;B32B27/32 |
| 代理公司： | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人： | 封新琴 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供多层结构和由这类结构形成的制品。在一个方面中，多层结构包含：(a)双轴取向聚乙烯膜，其包含外层，所述外层包含第一聚乙烯组合物，所述第一聚乙烯组合物包含至少两种线性低密度聚乙烯，其中所述第一聚乙烯组合物具有0.910到0.940g/cm |
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| 搜索关键词： | 多层 结构 用于 制造 方法 以及 相关 制品 | ||
【主权项】：
1.一种多层结构，其包含：/n(a)双轴取向聚乙烯膜，其包含外层，所述外层包含第一聚乙烯组合物，所述第一聚乙烯组合物包含至少两种线性低密度聚乙烯，其中所述第一聚乙烯组合物具有0.910到0.940g/cm3的密度、大于135kg/mol的MWHDF>95和大于42kg/mol的IHDF>95，其中所述膜在取向之后具有10到60微米的厚度；和/n(b)金属层，其包含沉积于所述外层上的金属，其中所述金属包含Al、Zn、Au、Ag、Cu、Ni、Cr、Ge、Se、Ti、Sn或其氧化物，且其中所述多层结构具有1.0到3.6的光学密度，/n其中所述多层结构具有当根据ASTM D882测量时沿纵向至少300MPa的2％正割模数，且其中所述多层结构具有当根据ASTM D3985-05测量时350立方厘米/[平方米-天]或更小的氧气穿透率。/n
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