[发明专利]经掺杂光伏半导体层及制造方法在审

专利信息
申请号: 201880027223.3 申请日: 2018-02-22
公开(公告)号: CN110546769A 公开(公告)日: 2019-12-06
发明(设计)人: S.格罗弗;李晓萍;R.马利克;S.塞伊莫哈马迪;熊刚;张威;S.欧文 申请(专利权)人: 第一阳光公司
主分类号: H01L31/0296 分类号: H01L31/0296;H01L31/18
代理公司: 72001 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 童春媛;彭昶<国际申请>=PCT/US2
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供在光伏器件中掺杂多晶薄膜半导体材料的结构和方法。实施方案包括用于形成和处理光伏半导体吸收层的方法。
搜索关键词: 多晶薄膜半导体 半导体吸收层 光伏器件 光伏 掺杂
【主权项】:
1.一种用于处理光伏半导体吸收层的方法,所述方法包括:/n提供还原剂,以产生还原环境;/n在吸收层为还原环境的同时,使至少部分吸收层与钝化剂接触,其中吸收层掺杂有V族掺杂剂,且其中吸收层包括镉和碲;并且/n在处于选择的温度和选择的压力的还原环境中时,将吸收层加热选择的处理持续时间。/n
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