[发明专利]弹性模式扫描光学显微术及检验系统在审
| 申请号： | 201880029676.X | 申请日： | 2018-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN110603434A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 萨姆尔·班纳;吴冬;梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼;瓦赫布·比沙拉 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/47;G02B21/08 |
| 代理公司： | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于弹性检验样品的方法包括以下步骤：使用射束源形成输入射束；使用输入掩模来阻挡所述输入射束的一部分；及从所述输入射束的一部分形成定形射束。在物镜的第一部分处接收所述定形射束及将所述定形射束聚焦到样品上。在所述物镜的第二部分处收集反射射束。在所述物镜的所述第一部分及所述第二部分处及在所述物镜的第三部分处收集散射光。在暗视野检测器模块处接收所述散射光，且将所述散射光的一部分引导到暗视野检测器。所述暗视野检测器模块包括具有一或多个输出孔的输出掩模，所述一或多个输出孔允许所述散射光穿过所述物镜的所述第三部分的至少一部分穿过而作为所述散射光被引导到所述暗视野检测器的所述部分。 | ||
| 搜索关键词： | 散射光 物镜 暗视野 定形 输入射束 射束 检测器 检测器模块 输出孔 掩模 穿过 反射射束 射束源 聚焦 阻挡 输出 检验 | ||
【主权项】：
1.一种用于亮视野及暗视野检验样品的系统，所述系统包括：/n来源，被配置为提供输入射束；/n输入掩模，具有输入孔，所述输入掩模被配置为阻挡所述输入射束的一部分，且所述输入孔被布置为允许所述输入射束的一部分穿过而作为定形射束；/n物镜，被布置为：/n接收所述定形射束，及以第一斜角将所述定形射束聚焦到样品上，所述定形射束穿过所述物镜的第一部分；/n收集反射射束，所述反射射束是所述定形射束从所述样品以第二斜角所反射的一部分，所述反射射束穿过所述物镜的第二部分；及/n收集散射光，所述散射光是所述定形射束被所述样品散射的一部分，所述散射光穿过所述物镜的所述第一部分及所述第二部分及所述物镜的第三部分，其中所述物镜的所述第一部分、所述第二部分及所述第三部分包括所述物镜的不同部分；/n亮视野检测器模块，被配置为接收来自所述物镜的所述反射射束，及将所述反射射束引导到亮视野检测器；及/n暗视野检测器模块，被配置为接收来自所述物镜的所述散射光，及将所述散射光的一部分引导到暗视野检测器，所述暗视野检测器模块包括具有一或多个输出孔的输出掩模，所述输出掩模被配置为阻挡穿过所述物镜的所述第一部分及所述第二部分的所述散射光，且所述一或多个输出孔被布置为允许所述散射光穿过所述物镜的所述第三部分的至少一部分穿过而作为所述散射光被引导到所述暗视野检测器的所述部分。/n
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