[发明专利]转印用脱模膜及无光泽成形体的制造方法在审
| 申请号： | 201880030636.7 | 申请日： | 2018-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN110621489A | 公开（公告）日： | 2019-12-27 |
| 发明（设计）人： | 菅原庆峰;宇佐大辅 | 申请（专利权）人： | 株式会社大赛璐 |
| 主分类号： | B32B3/30 | 分类号： | B32B3/30;B32B7/025;H05K9/00 |
| 代理公司： | 11105 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 杨薇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明使用在基材层的至少一面形成有不包含1μm以上的微粒、具有算术平均粗糙度Ra为0.1～2μm且60°光泽度小于5％的转印面的凹凸层的转印用脱模膜，在成形体的被转印面形成为上述转印面反转而成的形状的凹凸形状，从而制造无光泽成形体。上述凹凸层可以是含有一种以上聚合物成分及一种以上固化树脂前体成分的固化性组合物的固化物。选自上述聚合物成分及上述固化树脂前体成分中的至少两种成分可通过湿式旋节线分解而发生相分离。上述转印用脱模膜的雾度可以为50％以上。上述无光泽成形体可以为电磁波屏蔽膜。使用上述转印用脱模膜来转印凹凸形状时，可以制造光泽度低的无光泽成形体。 | ||
| 搜索关键词： | 转印 成形体 脱模膜 凹凸形状 固化树脂 聚合物 凹凸层 光泽度 前体 算术平均粗糙度 电磁波屏蔽膜 固化性组合物 固化物 基材层 相分离 转印面 节线 面形 湿式 雾度 制造 分解 | ||
【主权项】：
1.一种转印用脱模膜，其用于通过转印而制造光泽度低的无光泽成形体，/n该转印用脱模膜具有基材层、和形成于该基材层的至少一面且表面为转印面的凹凸层，/n所述凹凸层不包含1μm以上的微粒，转印面的算术平均粗糙度Ra为0.1～2μm，并且转印面的60°光泽度小于5％。/n
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